Товщина шару: частки мм-кілька мм Методи інженерії поверхні Термомеханічні Товщина шару: десятки мкм-кілька мм Товщина шару: частки мм-кілька мм Хіміко-термічні Товщина шару десятки мкм-кілька мм Електрохімічні та хімічні Товщина шару: кілька мкм-десятки мкм Товщина шару: десяті частки мкм-десятки мкм Натиск Обкочування: роликом кул ькою диском ударом: обробка дробом молотком Напилення газополуменеве електродугове плазмове детонаційне Наплавлення напиленням Плакування обкочуванням детонаційне усадкою ливарське наплавленням Зміцнення детонаційне лазерне електронне Загартування відпуск, відпал індукційний полуменевий плазмовий лазерний електронний Наплавлення дугове полуменеве плазмове лазерне електронне лазерне електронне електроіскрове Насичення дифузійне (без допомоги): порошкове газове дифузійне (з допомогою): тліючий розряд лазерне електронне електролітичне хімічне конверсійне Осадження з газової фази з пари напилення розпилення Імплантація іонів первинних вторинних іонне змішане Рис. 2.4. Класифікація методів за способом утворення шару та покриття: пш — поверхневий шар; п — покриття
Карта
|
