розрядом, а розпилення відбувається внаслідок бомбардування мішені іонами, добутими з плазми;

2) з автономним іонним джерелом без фокусування або з фокусуванням іонних струменів, які бомбардують мішень.

Плазмоіонні системи класифікуються:

•за кількістю електродів: діодні, тріодні тощо;

•за видом напруги, що використовується: постійна, високочастотна;

•за наявністю або відсутністю потенціалу на виробі, на який напилюється: зі зміщенням або без зміщення.

Якщо розпилюваний матеріал (мішень) є діелектриком або ви-сокоомним напівпровідником, то замість постійного струму використовують високочастотний.

Використання іонного струменя від автономного джерела дає змогу отримати більші швидкості розпилення при більшому вакуумі, ніж у плазмоіонних системах, і послідовно розпилювати кілька мішеней. У системах з іонним джерелом потік позитивно заряджених частинок отримують внаслідок формування іонів у плазмі газового розряду, їх екстракції з плазми, прискорення і фокусування в системах іонної оптики.

Серед плазмоіонних способів на практиці дістали поширення діодні, тріодні та магнетронні системи.

Діодна схема іонного розпилення подана на рис. 4.28.