Рис. 4.27. Схема вакуумного напилення покриття розпиленням катода дугою низького тиску: / — джерело електроживлення; 2 — розпилюваний матеріал (катод); 3 — електромагнітні торцеві прискорювачі; 4 — водоохолоджува-ний анод; 5— потік напилюваних частинок; б — виріб; 7—дуговий розряд; 8 — стабілізаційна електромагнітна котушка; 9— канал водоохолодження: 10— високовольтний випрямляч

У технічній літературі такий спосіб ше називають іонно-плазмовим вакуумним напиленням, підкреслюючи, що формування покриття переважно відбувається з іонізованого потоку частинок.

Процес здійснюється в жорсткій камері у вакуумі при тиску 10—10_1 Па. Між розпилюваним матеріалом — катодом 2 та мідним водоохолоджуваним анодом 4— збуджується дуговий розряд. З цією метою використовують силове джерело живлення постійного струму / з напругою холостого ходу 60—80 В. Для збудження дуги використовують різні схеми (допоміжний електрод, плавку вставку тощо).

Стабілізація катодної плями в межах площини матеріалу, що розпилюється, передбачена за допомогою електромагнітної котушки 8. Дуговий розряд 7 протікає в парі матеріалу катода. В окремих катодних плямах відбувається безперервний процес самочинного руйнування чарунок і безперервне утворення нових. Густина струму в катодних плямах становить 105— 107 А/см2 при частоті коливань того ж порядку. Таким чином, дуга відіграє роль імпульсного джерела нагрівання.

Стійкість дуги залежить від того, як легко випаровується матеріал катода під дією енергії, яка виділяється в катодних пля-

305