пература матеріалу, який випаровується, та продуктивність процесу.

У практиці напилення реалізуються джерела електроживлення потужністю від 0,5 до 200 кВт.

Від температури поверхні випаровування залежать тиск насиченої пари і швидкість випаровування.

Крім електричної потужності, до основних параметрів вакуумно-конденсаційного методу напилення термічним випаровуванням належать:

•тиск у камері;

•дистанція напилення;

•температура поверхні виробу, що напилюється.

Тиск у камері вибирають від 10~2 Па і нижче. При вищому тиску (Рк 1,33 ■ 10_1 Па) швидкість випаровування зменшується. Над поверхнею утворюється приповерхневий шар. Тиск у камері впливає на дифузію пари з цього шару. Необхідно вказати, що пружність пари практично не залежить від тиску в камері. При високому тиску насиченої пари (Р0 133 Па) швидкість випаровування зменшується. Це пояснюється зменшенням довжини вільного пробігу частинок над випарником.

Тиск у камері впливає на рівномірність напилених покриттів. На практиці іноді використовують збільшення тиску для отримання покриттів з більшою рівномірністю за товщиною.

Дистанцію напилення вибирають у межах 150—250 мм. Для оптимальних значень тиску в камері — меншу від довжини вільного пробігу напилюваних частинок. Дистанція напилення суттєво впливає на рівномірність покриття. Збільшення дистанції напилення сприяє рівномірності покриття за товщиною, але при відстані, більшій за оптимальну, знижується коефіцієнт використання матеріалу (КВМ).

Температура поверхні виробу, шо напилюється, є одним із найважливіших параметрів процесу напилення. Вона суттєво впливає на адгезійну міцність, структуру покриття, рівень залишкових напружень і, таким чином, на якісні характеристики покриття.

Змінюючи температуру поверхні, яка напилюється, і відповідно структуру покриття, можна в широких межах регулювати його механічні властивості.

Оптимальні параметри напилення випаровуванням забезпечують утворення потоку частинок, який характеризується такими показниками:

•густиною потоку 1016—1022 частинокДсм2 ■ с) ;