Рис. 4.2. Зміна концентрації компонента В в паровій (7) і рідкій (2)

фазах: С0ПВ, С0РВ — початкова концентрація компонента В відповідно в паровій і рідкій фазах; С"в, С*в —

концентрація компонента в парі і рідині після перехідного періоду

2 мкм. Основне гальмування електрона і виділення енергії відбувається в кінці пробігу, тобто температура сягає максимуму на певній відстані від поверхні.

Отже, при нагріванні електронним променем джерело теплоти знаходиться в самому тілі, в тонкому поверхневому шарі. Тиск електронного променя і конвекція, яка викликана градієнтом температури, забезпечують інтенсивне перемішування рідкої ванни. Тому можна вважати, що в рідкій ванні градієнт концентрації відсутній.

Таким чином, випаровування бінарного сплаву А-В в цих умовах матиме такі особливості. У міру випаровування компонента В з вищою пружністю пари знижується його вміст у рідкій і паровій фазах. Через певний проміжок часу гп так званого перехідного періоду концентрація компонента в рідкій ванні зменшиться до певної величини СпВ, і в паровій фазі дорівнюватиме вмісту у вихідному сплаві Сов. Подальше випаровування здійснюється в усталеному режимі, оскільки в міру випаровування заготовка пересувається вгору зі швидкістю, яка забезпечує сталий об'єм рідкої ванни і концентрацію СпВ. Відбувається своєрідне підживлення рідкої ванни компонентом В. Склад пари і відповідно покриття дорівнює складу вихідного сплаву. Схему цього процесу зображено на рис. 4.2.

Тривалість перехідного процесу (год) становить

Іп=г\Е^,(4.12)

1,45р У(МВ/МА)

де г = ^ " Г/2 ; Р — густина розплаву; V, 5 — відпо-

" І в Рові'" В І ' '

відно об'єм і поверхня рідкої ванни; МЛ, Мв — атомні маси компонентів; /в — коефіцієнт активності компонента В; /;ов — рівно-