4.1. Випаровування металів і сплавів

Утворення вакуумних покриттів визначається послідовним проходженням складних фізико-хімічних процесів, а саме:

•випаровуванням чи розпиленням вихідного матеріалу покриття;

•напрямленим масоперенесенням у вигляді потоку атомів чи іонів матеріалу покриття на поверхню основи;

•співударом потоку з поверхнею і подальшою адсорбцією чи десорбцією атомів чи іонів на ній;

•поверхневою дифузією атомів до місць найкращого утворення зародків покриття;

•міграцією і коалесценцією зародків та утворенням острівців; зрощенням острівців у суцільну плівку; ростом суцільної плівки і утворенням покриття необхідної товщини.

Вказані процеси залежать від ступеня вакууму в камері напилення. Цей показник визначається співвідношенням між відстанню І від випарника до поверхні і середньою довжиною вільного пробігу атомів К. Якщо К Ь, то такий вакуум називають низьким, якщо К = Ь — середнім і якщо А Ь — високим.

У низькому вакуумі траєкторія руху кожного атома має вигляд ламаної лінії внаслідок багатократного зіткнення з молекулами довколишнього газу. Потік пари перемішується, що дає змогу наносити в такому паровому середовищі покриття, рівномірні за товщиною.