Рис. 3.65. Зміна величини параметра складності плавлення залежно від складу композиційного порошку:

Кі-ЛУС ггт = О (Л: Мі-АІА Тт =С) (Л:

0 0,2 0,4 0,6 0,8 1 Масова частка компонента В

АІ:0,-Мі (Гп„ = Т"і0}) (4)

чення /)кч між кривими 2 і 4 належить до формування покриття внаслідок перегрітого розплаву нікелю і твердих включень оксиду алюмінію. Подібне явище спостерігається для композиції ІМі-\УС при значеннях /)кч між кривими / і 3. Таким чином, регулюючи режим напилення композиційних порошків, можна вводити до складу плазмового покриття компоненти в різному агрегатному стані при різному ступені теплової обробки в умовах плазмового струменя.

Діапазон цього регулювання можна визначити, виходячи з особливостей руху й нагрівання частинок композиційного порошку в об'ємі плазмового струменя, за даними про зміну величини параметра складності плавлення.

Одним з основних показників процесу нанесення покриттів газотермічними методами є КЕШ, що являє собою відношення маси покриття до маси порошку, поданого в газовий струмінь. Цей показник називають також коефіцієнтом відкладання, ефективністю напилення. Він не тільки характеризує економічність процесу нанесення, а й використовується як параметр оптимі-зації, оскільки його максимальне значення в багатьох випадках збігається з найкращими показниками якості покриття. Втрати порошку при газотермічному напиленні (при напиленні на необмежену підкладку) складаються із втрат на відбивання частинок, які мають недостатній запас теплової енергії, на розбризкування перегрітого розплаву й на випарювання матеріалу частинок. У випадку напилення на деталь із поперечним розміром, меншим від перерізу струменя напилюваного матеріалу, виникають додаткові втрати. У зв'язку з цим залежність КВП від електричної потужності плазмотрона має екстремальний харак-