насосів. Між камерою та блоком насосів встановлено масляний фільтр. Установка має два джерела живлення, два блоки автономного охолодження та фреоновий холодильник, два двобун-керних живильника порошку з шафами керування, два пульти керування, блок газопідготовки, блок контролю, дві шафи керування, стійку керування маніпулятором та камери сухого і мокрого очищення аерозолів.

Після встановлення виробів на чотирипозиційний стіл робота установки відбувається в автоматичному режимі: закриваються двері вакуумної камери, вмикається блок вакуумних насосів та відбувається вакуумування камери до 6,45 Па (5 ■ 10"2 мм рт. ст.), потім напускається інертний газ до тиску 5—20 мм рт. ст. При цьому тиску з використанням джерела живлення УПС-301 відбувається іонне очищення деталі. При нанесенні покриття з активних матеріалів перед іонним очищенням згідно з програмою проводиться багаторазова продувка камери інертним газом.

Після очищення деталь нагрівається до потрібної температури, підвищується тиск напуском інертного газу до 6,45 • 103— 19,9 • 103 Па (50—150 мм рт. ст.) і проводиться напилення з використанням джерела живлення ВПН-630.

Плазмоутворювальними газами можуть бути аргон, азот, гелій, водень.

Бункери живильників порошку мають нагрівальні пристрої, які підготовляють порошок перед напиленням та підтримують необхідну температуру.

Після напилення тиск знову знижується до 6,45 • 102— 2,58 ■ 103 Па (5—20 мм рт. ст.) та проводиться термообробка напиленого шару.

Для нанесення покриття з великою міцністю зчеплення та пористістю, меншою, ніж 1 %, на деталі складної форми створено програмований комплекс УН-130 УХЛ4 "КВАРТ" для плазмового напилення в динамічному вакуумі.

Комплекс складається з п'яти основних модулів: вакуумного, плазмового, внутрішньокамерного устаткування, допоміжного обладнання та системи програмного керування.

Вакуумний модуль здійснює відкачування газів із вакуумної камери до 7 Па, подачу інертного газу та підтримання його тиску в межах, які вимагаються технологічним процесом, очищення газів від дисперсних частинок перед форвакуумною станцією.

Плазмовий модуль забезпечує необхідну подачу робочих газів при очищенні деталей перенесеним розрядом, напиленні та термообробці, а також порошкових матеріалів при напиленні.