Конструкционные материалы: Справочник
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 463 464 465 466 467 468 469... 650 651 652
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Материалы, устойчивые к температуре и рабочей Среде |
|
|
|
|
|
иий, которые значительно ускоряют
процесс диффузионного насыщения вследствие образования
субгалогенидов-диффундирующего элемента, ' ДРМ. Диффузионное насыщение из
легированных металлических расплавов. Протравленные и промытые изделия
после небольшой выдержки в слое флюса погружают на некоторое
время в расплав. После охлаждения на воздухе для . ответственных изделий
про-, водят диффузионный отжиР при 950—1000 °С.
ДРС, Диффузионное насыщение из
расплавов солей. В расплав, состоящий из смеси . солей хлористого бария и
натрия, Добавляют диффундирующий * элемент и его галогениды. Во время
изотермической выдержки деталей при 1000— 1200 °С происходит диффу--
знойное насыщение (например, хромирование).
ДШ. Диффузионное насыщение из
суспензий (шликерный способ) заключается в том, что суспензию наносят
окраской, окунанием или пульверизацией на хорошо очищенные
поверхности деталей, а после сушки на воздухе отжигают в вакууме, аргоне
или в воздушной атмосфере. Температура и время отжига в печах определяют
толщину^ диффузионного покрытия. Суспензию приготовляют из тонких порошков
диффундирующих элементов и органического (жидкого)
связующего.
ДЭП, Диффузионное насыщение из
паст отличается от шли-кериого способа высокой производительностью
вследствие скоростного электронагрева ТВЧ поверхности обрабатываемой
детали, на которую нанесен слой пасты. Пасту приготовляют из тонких
порошков диффундирующего элемента, флюса (например, криолит) и
связующего (на- |
пример, гидролизированный
этилсиликат). В состав раз. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
правило, галоидные соедини ния,
которые активизирую^ диффузионное насыщение. ' ДЗС, Электролизный способ
дИф, фузионного насыщения щ расплавов солей основан на
пропускании постоянного тока через расплав сола Обрабатываемая деталь яв'
ляется катодом, а графито. вый электрод или тигель печи — анодом. В
результате протекающих в ванне электролизных процессов диффу. знойное
насыщение интенсифицируется. Наиболее разработанным является
способ электролизного борирования в расплаве буры. ИЛ, Ионное легирование
(имплантация) поверхности становится возможным при больших
энергиях бомбардирующих ионов. Ускорители, дающие пучки ионов бора с
энергией в несколько сот килоэлектронвольт, позволяют получить
глубину имплантации в кремний всего 1 мкм. Для более тяжелых ионов и
больших глубин имплантации требуются более мощные
ускорители. Можно «вбивать» атомы любого элемента в любой
материал. ИХТО. Ионная химико-термическая обработка — прогрессивный способ
азотирования, цементации, нитроцементации, си-лицирования,
алитирования и т. д. в ионизированных газовых средах.В специальных
установках все поверхности обрабатываемых деталей (катодов)
бомбардируются иона' ми диффундирующих элементов в плазме тлеющего
разряда, в результате чего происходит очистка, разогрев и
диффузионное насыщение Дв' талей. Для высокотемпер-1" турных
процессов (цемента-ция, силицирование и ^ДР-J вводится
дополнительный ра' |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 463 464 465 466 467 468 469... 650 651 652
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |