Технология и свойства спеченных твердых сплавов и изделий из них. Учебное пособие для вузов
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 148 149 150 151 152 153 154... 214 215 216
|
|
|
|
В зависимости от термодинамических условий образования галоге-нидов происходит одновременный перенос одного вещества на другое или односторонний перенос вещества, обладающего более высокой отрицательной величиной изобарного потенциала образования хлоридов из простых веществ. Переносится то вещество, которое обладает меньшей энергией кристаллической решетки, к веществу, имеющему большую энергию. Значительную роль в процессе переноса играет водород. Вещества, у которых отрицательный термодинамический потенциал (ДС) образования галогенидов из простых веществ больше, чем ДСнст" транспортируются к веществам, у которых ДС меньше этой величины. В тех случаях, когда величины термодинамического потенциала образования галогенидов близки друг к другу и к ДСнсь происходит одновременный перенос обоих веществ. Таким образом, условиями одностороннего переноса вещества Ме1 к Ме" при диффузионном насыщении являются: Емс ЕМе" ИЛИ ДН°298 Ме. ДН°298 Ме" или I ДСметЫ ДО°нгЫ ДО°Ме.-г1 В случае, когда Дв0 МеТ "„ДСнг ~ ДС-° Мет , имеет место двусторонний перенос реагирующих веществ. Механизм переноса в ряде случаев объясняется с помощью адсорбционной теории. При ДН галогениды одного компонента смеси адсорбируются на поверхности второго и взаимодействуют с активными центрами этой поверхности. В адсорбированном слое протекает реакция замещения и образуются активные атомы насыщающего вещества, диффундирующие вглубь частиц. При такой трактовке ясно, почему диффузионное насыщение идет при очень малых содержаниях соли галогенида аммония, легко объяснить необходимость высоких температур, возможность протекания термодинамически невыгодных реакций и другие особенности этого процесса. Для нанесения износостойких слоев на твердые сплавы, в основном, применяются методы ГТ и ДТ, которые по сути протекающих процессов имеют много общего. В основе ДН методов лежат реакции взаимодействия газовой фазы, содержащей диффундирующий элемент в составе химического соединения, с поверхностью насыщаемого материала. Химические реакции, в результате которых выделяется насыщающий элемент, могут происходить в объеме газовой фазы, а также на границе обрабатываемая поверхность -газовая фаза. Часто насыщение осуществляется контактным методом ("способ порошков"). В этом случае компоненты насыщающей смеси задаются в виде порошков, но диффузия происходит не через твердую фазу, а через газовую. Примером может служить метод ДТ, применявшийся на ЗАО МКТС для промышленного нанесения слоев карбида титана на неперетачиваемые пластины. Сущность этого метода заключается в образовании слоя карбида титана на разогретой поверхности твердых сплавов за счет диффузии из порошкообразной засыпки. Технологическая схема (ДТ) включает операции: 1.Подготовка неперетачиваемых пластин. Промывка спиртом и протирка тканью. Пластины укладываются на противни на подстилку из оберточной бумаги. 2.Приготовление шихты: 60 % Ті + 40 % ТіС в 50 л барабане без шаров, но с гвоздями (40 кг шихты 4 кг гвоздей), смешивают 4 часа. Затем просеивают на вибросите. 3.Прокалка шихты при 800 °С, свободная засыпка в лодку. Про движка 9,7 мм/мин, расход водорода 1500 л/час. Затем размол в 50 л барабане 5 мин и просев через сито 90 меш. 4. Добавка прокаленного активатора ЫН4С1. Перемешивание в 50 л барабане 1,5 % ЫН4С1 и шихты с гвоздями 4 ч, затем просев. 5. Укладка в лодку в три ряда по ширине и два по высоте. Слой засыпки 30...40 мм. 6. Первая стадия термодиффузионной обработки 1000±10 °С, расход водорода 1500 л/час, продвижка 9,7 мм/мин. Затем промывка спиртом и протирка тканью. Визуальный осмотр и загрузка в лодки. Толщина слоя должна быть 10...25 мкм на сторону. 7. Вторая стадия термодиффузионной обработки: 1100±10 °С, длина горячей зоны 600...800 мм, расход водорода 1500 л/час. Засыпка сажа (уплотняется), а потом укладка пластин. Закрывается графитовой крышкой. Продвижка 9,7 мм/мин. 8. Зачистка пластин и ОТК. Промывка спиртом, и протирка. Так получают готовые режущие пластины с покрытием из карбида титана (на примере сплава ВК6). Суть основных операций по методу ДТ следующая. При нагреве твердосплавных пластин, помещенных в лодочку с засыпкой, при 1000 °С происходят следующие реакции: 1)НН4С1-"]ЧН3+НС1; 2)2ЫН3 Ы2 + ЗН2; 3)Ме(Ті) + 2НС1 МеС1п(ТіС1„) + Н2; 4)МеС12(ТіС12) + Н2 Ме(Ті) + 2НС1. Основной металл оказывает каталитическое действие на протекание химических реакций на его поверхности. Состав засыпки: титан основной легирующий элемент; ТіС -наполнитель, не участвующий в реакциях, но препятствующий спеканию
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 148 149 150 151 152 153 154... 214 215 216
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
