| Материаловедение в микроэлектронике
 
 
 
 
 
 Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо   
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
 
 Страницы: 1 2 3... 77 78 79 80  81 82 83... 140 141 142
 
 
|  |  |  |  
|   |  | при нагревании (Т0бТп).  Полная классификация макронапряжений в пленках приведена ниже.   Классификация макронапряжений в пленках металлов     Виды макронапрпжений    Механизм возникновения    Характер    Знак      Структурные    Аннигиляция   дефектов  Выпадение пор Спекание пор  Окисление или адсорбция  Охлаждение  нли  нагревание    Остаточные    +      Фазовые  Конденсационные физико-химическне  Конденсационные термические    То же  я       •  я       я  Остаточные  То же Временные (остаточные)    + +. -+     Многослойные композиции.    Проводящие  дорожки, контактные  площадки и обкладки конденсаторов изготовляются в виде многослойных покрытий, имеющих обычно три слоя.  Нижний тонкий порядка нескольких десятков или сотен нанометров слой предназначен для создания адгезии между подложкой и расположенным поверх него толстым (102—104 нм) слоем хорошо проводящего металла (Си, к%, Аи, А1), но неустойчивого против коррозии.  Многослойные композиции покрываются сверху обычно никелем или другим устойчн-чивым к воздействию внешней агрессивной среды пленочным материалом.  Контакты к пленочным резисторам [52—54] часто делаются двухслойными: верхний слой предназначен Для термокомпресснонно-го соединения, а нижний обеспечивает связь с материалом резистора.  Для резистора нз нихрома используется подслой хрома.  Для резисторов из силицида хрома ^гСг) нли силицида молибдена (Мо51г) подслоем служит пленка молибдена толщиной 50 нм, создающая хорошую адгезию.  Для резисторов из нитрида тантала используются многослойные пленочные композиции: Ть—Аи, №Сг—Аи, №Сг—Р(1— Аи, №Сг—Си—Р(1—Аи н др.  Специфика материаловедения многослойных пленочных систем требует отсутствия взаимной диффузии слоев материалов.  В пленочных системах возможна диффузия поперечная (в направлении, перпендикулярном поверхности пленки) и продольная (параллельная поверхности пленки).  Поперечной диффузии свойственны характерные закономерности, связанные с высокой концентрацией избыточных вакансий, возникающей в свежесконден-сированиой пленке и обусловливающей интенсивную диффузию в начальной стадии.  Последняя характеризуется запаздыванием в образовании интерметаллическнх соединений.  Интенсивность этой стадии зависит от скорости "рассасывания" первоначальной неравновесной концентрации вакансий до равновесного значения.  Если время жизни избыточных вакансий достаточно велико н они достаточно долго задерживаются в объеме блоков-кристаллитов (прежде чем коагулировать в диски, микропоры, выйти на поверхности нли осесть на линейный, плоских и объемных дефектах), то происходит нитенснвиая днффузня.  Такое явление наблюдалось в пленочной системе Ад—А1, причем алюмакий диффундирует на глубину до 70 нм, а серебро — 156  на 40 нм без образования интерметаллидов.  Пограничная диффузионная область между пленками толщиной 110 нм представляет собой метастабильный пересыщенный раствор Ае—А1.  Отжиг его приводит к выделению иитерметаллида Ао;^.  При формировании зародышей иитерметаллида возникают локальные диффузионные процессы: миграция атомов А1, А% и вакансий к зародышам к%гк\.  Одним из важных последствий выделения частиц новой фазы являются быстрый сток к ним избыточных вакансий и прекращение начальной диффузии.  Начальная диффузия сопровождается интенсивной рекристаллизацией, приводящей к интенсивному смещению меж-зеренных границ в пленках и совершенствованию ориентации [111].  В системах, в которых избыточные вакансии быстро покидают объем блоков-кристаллитов, начальная диффузия наблюдается слабо или отсутствует.  Исследование двухслойных эпитаксиальных пленок км—^й выявляет микроскопический механизм компенсации напряжений и несоответствия периодов решеток внутрии вне диффузионной зоны.  В плоскости раздела до диффузионного отжига Метьюз наблюдал дислокации несоответствия в виде квадратной сетки с дислокационными линиями, параллельными направлениям [110] и [ПО]  и векторами Бюргерса, равными -у в [ПО].   В процессе отжига плоскость раздела заменяется диффузионной областью переменного, состава.  Скачкообразное изменение периодов решетки на границе превращается в непрерывное его изменение вдоль всей толщины диффузионной зоны [55].  Дислокация несоответствия в процессе отжига перемещается в диффузионной зоне скольжением н диффузионным переползанием (когда вектор Бюргерса лежит в плоскости границы раздела).  Если же вектор Бюргерса наклонен к плоскости раздела, то возможно перемещение обоими способами.   В поперечном сечении диффузионной зоны дислокации перегруппировываются.  Изменение периода решетки в результате внедрения диффундирующих атомов компенсируется искажениями решетки.  В результате вся диффузионная зона в плоскости, параллельной поверхности пленки, разбивается на блоки-зерна, окруженные границами.  Вне этих блоков различие периодов на обеих границах диффузионной зоны скомпенсировано дислокациями за счет искажения решетки.  Возникающие напряжения могут вызвать деформацию плевкн.   Существенная роль границ блоков-кристаллитов проявляется при диффузии в системе Аи—№, когда образуются пересыщенные растворы Аи в N1 и N1 в Аи.  При достижении определенного пересыщении происходит выделение частиц сплава по границам блоков-кристаллитов пленки-матрицы.  Скорость диффузии по межкристал-литным границам резко увеличивается по сравнению с объемной Диффузией.  После выделения частиц сплава матричный раствор оказывается менее насыщенным н в дальнейшем диффузионный процесс пересыщения может повториться [56].  В результате диффузия золота в зону раствора, обогащенного никелем, образуются "промежуточные" фазы (упорядоченные твердые растворы): Аи3№, Аи№, Аи№з.  При протекании взаимной диффузии существенную роль играет диаграмма состояния исследуемой системы.  На границе раздела между обоими металлами можно было бы ожидать стабильных фаз в соответствии с диаграммой.  Однако начальная диффузия, как правило, не сопровождается выделением интерметаллидов. Опреде
 
Карта |  | 
 |   |  |  
|  |  |  |  
 
 
 
 
 Страницы: 1 2 3... 77 78 79 80  81 82 83... 140 141 142
 
 
 Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу  |