Материаловедение в микроэлектронике
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 61 62 63 64 65 66 67... 140 141 142
|
|
|
|
Рнс. 5-11. Схемы различных методов катодного распыления, а —диодная; б — триодная со смещением; в —диодная с асимметричным полем; г — катодно-плазменная; д — катодно-плазменная с раздельной камерой разряда и камерой распыления; е — с ионной пушкой; обозначения: К — катод; А — анод; М — мишень; П — подложка; Э — управляющий электрод; МК — магнитная катушка. Катодным распылением успешно получают пленки германия. Пленки 1п8Ь, препарированные катодным распылением, имеют подвижность носителей заряда более 10 000 см2/(В-с). С помощью ка_-тодного распыления получают также слон СаБЬ, Сс15 [19] с такой же подвижностью и концентрацией носителей заряда, как и для исходного образца-мншени. Ионное травление. Различия в коэффициентах распыления для разных кристаллографических направлений и плоскостей создают возможность ионного травления, например, твердых сплавов силицидов, карбидов, боридов и т. д. [25, 27]. Существенным преимуществом является универсальность, т. е. возможность травнть самые различные материалы и прн высоких температурах. При нонном травлении не возникают окисные пленки, которые неизбежны при химическом травлении. Химические реакции при распылении. При катодном распылении повышается каталитическое действие поверхности мишени н конденсируемой пленки, а также происходят реакции в плазме. Это может быть использовано в практических целях. В газовом разряде осуществляются крекинг и полимеризация углеводородов, синтез и химические превращения азотои кислоро-досодержащих соединений. Прн реакциях в газовом разряде наблюдается повышение эффективности действия катализаторов. Показано, что прн катодном распылении в присутствии водорода образуются углеводороды типа СпН2т, гидриды Ао;Н3, БЬНз, ТеН3, БеНз и нитриды РезИ, Си21М, ВНМ, РЬЭН4, 8ЬМ, СЫ^2, А§31М, 2п3Щ [27]. При тлеющем разряде в кислороде как на аноде, так и на катоде из металлов (А1, Ее, Си, и т. д.) образуются пленки окислов, значительно более толстые, чем при окислении на воздухе. Данные об окислах металлов приведены ниже. Образование окислов при катодном распылении Мета л л Окисел Металл Окисел м8 л^о N1) ІМЬО; КЬ203 А1 А10; А120э А3 Аё20 Ре Рег03; Ре304 Сс1 СсЮ Си Си20 ІП ІП. О, гп гпо РЮ; РЮг; Р1а04 5-3. НЕРАВНОВЕСНЫЕ СОСТОЯНИЯ В ПЛЕНКАХ В пленочных материалах наблюдаются следующие виды неравновесности: фазовая, структурная исубструк-турная. Для тонкопленочного состояния характерно образование термодинамически неравновесных фаз. К подобным неравновесным фазам относятся: аморфные (стеклообразные); метастабильные фазы различных элементов— БЬ, в, ве и др. , а также сплавы типа Ме—X (Ад—в, Си—в, Аи—в и др.); пересыщенные твердые растворы (А1—Си и др.); высокотемпературные кристаллические фазы и модификации (р-кобальт, р-никель, р—Сав и т. п.). Существенным фактором, способствующим стабилизации неравновесных фаз, являются малая толщина пленки /г и высокая степень дисперсности частиц. На рис. 5-12 представлена диаграмма а и р-превращеиий в аморфных пленках сурьмы в координатах, толщина пленки к — скорость осаждения. При некоторой толщи
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 61 62 63 64 65 66 67... 140 141 142
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
