Материаловедение в микроэлектронике






Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу Материаловедение в микроэлектронике

Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .



Страницы: 1 2 3... 54 55 56 57 58 59 60... 140 141 142
 

Количественное исследование испарителей и распределения конденсата на подложке было начато одновременно с разработкой и исследованием основных методов препарирования вакуумных конденсатов [1, 6]. Исследование геометрии контейнера — испарителя установило ряд важных практических результатов. Так, цилиндрические испарители обеспечивают постоянство во времени пространственного распределения молекулярного пучка и скорости испарения. При термическом испарении в вакууме элементарных веществ и соединений геометрия испарителя (отношение 5/5 площади отверстия ко всей площади внутренней поверхности испарителя) влияет на состав пара (на соотношение компонентов или многоатомных комплексов) [9]. При открытом испарении используются скорости осаждения пленок 1 —10 нм/с, что соответствует давлению пара над испаряемой шихтой 10'—Ю-1 Па. При этом длина свободного пробега молекул пара существенно меньше размера испарителя. Поток пара в испарителе представляет собой газодинамический поток, двигающийся к выходному отверстию испарителя со скоростью, соизмеримой со скоростью звука. Для количественного описания движения пара в испарителе и его рассеяния после прохождения через выходное отверстие используются методы прикладной газодинамики [10]. Такие газодинамические расчеты оказались плодотворными, например, для получения пленок бинарных соединений в квазизамкнутом объеме [10]. Методы прикладной газодинамики используются для установления связи между режимом испарения и параметрами распределения конденсата над испарителем. В зависимости от соотношения К — длины свободного пробега молекул в паре и Ь — геометрических размеров сосуда, в котором находится пар, различают два основных режима массо-переноса: П(молекулярный пучок); 2) Ь~^% (газодинамический поток). При /,сА. молекулы пара распространяются с испаряемой поверхности по прямолинейной траектории. Основные закономерности для этого режима испарения были установлены Кнудсе-ном [11]. Распределение по энергиям молекул, падающих на поверхность, как и покидающих ее, описывается распределением Максвелла, а по направлениям-^законом "косинуса", когда поверхность находится в термодина мическом равновесии с паровой фазой: /(r,6) = /„£cos6,(5-1) где I (г, 8) — ноток испаряемых молекул на расстоянии г от источника иод углом 6 к нормали элемента поверхности испарения ds; /о — поток молекул, испускаемых поверхностью. Кнудсен распространил закон "косинуса" также на свободное испарение в вакууме Теоретические и экспериментальные исследования показали, что соблюдение закона косинуса имеет место при наличии максвеллов ского распределения молекул по скоростям, когда между молекулами нет взаимодействия, следствием которого является обратный (направленный на поверхность испарения) поток молекул. Для молекулярного пучка это условие выполняется с большой точностью. Условия существования пара и массопереноса в объеме испарителя могут существенно отличаться от условий для молекулярного пучка. 'Гак, для испарителя часто реализуется условие А,d, где L —цлииа, d — диаметр испарителя, т. е. внутри испарителя массопере-пос осуществляется газодинамическим потоком Газодинамическая модель цилиндрического испарителя. Пар, покидающий испаритель, расширяется и на некотором расстоянии от пего /7|Д длина свободного пробега увеличивается настолько, что условие газодинамического потока (КЯГД) -нарушается. Здесь /Л-д—характерный размер парового облака над испарителем, внутри которого выполняется это условие. Область пространства, примыкающая к испарителю, в которой выполняется более слабое условие Ь^НГЯ, может быть названа внешней газокинетической областью. Она имеет характерный размер #гк. Рис. 5-1 иллюстрирует геометрию распространения молекул в пространстве, окружающем испаритель, помещенный в вакууме. Распределение конденсата на подложке, расположенной над испарителем на расстоянии Я, описывается функцией распределения [,(] ф(а)=7"/7о,(§-2) где а=ру/Я; qy — весовая толщина холма на расетоянии ру от центра холма; q0 — максимальная весовая толщина в центре холма. Форма холма конденсата характернії!
rss
Карта
 






Страницы: 1 2 3... 54 55 56 57 58 59 60... 140 141 142

Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу


Новые сварочные источники питания: Сб. науч. тр.
Общетехнический справочник
Упрочнение и отделка деталей поверхностным пластическим деформированием: Справочник
Материаловедение в микроэлектронике
Технология и свойства спеченных твердых сплавов и изделий из них. Учебное пособие для вузов
Вентиляция рабочих мест в сварочном производстве
Сварка порошковой проволокой

rss
Карта