Материаловедение в микроэлектронике
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 45 46 47 48 49 50 51... 140 141 142
|
|
|
|
Здесь ю — вероятность обмена й единицу времени местами соседних атомов А и В в интерметаллической фазе; АС — разность поверхностных концентраций А и В на обеих границах прослойки интерметаллического соединения; п и т — концентрации компонентов А и В в интерметаллическом соединении; №0 — количество атомов на единицу граничной поверхности. Соотношение (3-42) может быть применено для случая, когда АС мало по сравнению с п и т. В соответствии с оценкой [67] при ДС 10% коэффициенты диффузии в системах Си—2п и Ре—Zn для 400°С равны: 7Л=2X Ю-3 см2/сут для (Си—2п), £2=2Х10-4 смг/сут для (Ре—2п). При уменьшении ДС до 2% соответствующие коэффициенты диффузии возрастут примерно в пять раз. Из данных оценки видно, что коэффициенты диффузии компонентов образовавшейся интерметаллической фазе велики сравнительно с коэффициентами диффузии в чистых металлах. Для определения коэффициентов диффузии при реактивной диффузии может быть использован метод Больцмана —Матано [12]. (см. стр. 80). Плоскость Матано в этом случае играет роль "виртуальной" границы раздела. Начало координат х=0 выбирается на плоскости Матано (см. рис. 3-10), для которой в пре Рис. 3-16. Кривая концентрация С — расстояние х прн многофазной диффузии (М — плоскость Матано). делах прослойки интерметаллического соединения площадь под кривой С(х) слева равнялась соответственной площади в правой части этой прослойки. На рис. 3-16 схематически изображена ситуация, в которой на границе раздела кроме прослойки интерметаллического соединения р образуются также интерметаллическая фаза у и твердые растворы а и б. Так же как и в случае диффузии в однофазной системе, коэффициент диффузии можно найти, вычисляя соответствующие площади и наклон С(х) (см. рис.3-10). Эксперименты по определению коэффициентов диффузии показывают, что при реактивной диффузии они существенно зависят от концентраций. Характерная особенность "виртуальной" плоскости раздела Матано состоит в том, что на уровне этой плоскости (х=0) коэффициент диффузии должен быть максимальным, т. е. плоскость Матано пересекает кривую С(х) в точке перегиба. Значения коэффициентов диффузии на границах раздела фаз а/р определяют из соотношения *(£)*.-°.(£к,-^У*" 9 о Здесь й — толщина прослойки соединения р. Скорость ур роста прослойки равна: °=*= С-с-гг^ {344) Величины в соотношении (3-43) имеют следующий смысл (рис. 3-16): Са — максимальная концентрация в твердом растворе а слева от границы раздела а/Р; Се, а ~ концентрация справа от этой границы в соединении р. Скорость роста прослойки р-фазы в соответствии с (3-44) тем больше, чем больше разность коэффициентов диффузии, чем более узка примыкающая двухфазная область. Элементарный акт при реактивной диффузии. В простейшем случае элементарный акт прн реактивной диффузии сводится к элементарному акту обрыва химической связи по одну сторону границы 93
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 45 46 47 48 49 50 51... 140 141 142
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
