Рис. 9.1. Схема процесса плазменной резкн:
а — плазменной дугой: / —
Дуга, 2 — рабочий газ, 3 — плазменная струя, 4 —
металл. 5 — вольфрамовый электрод, 6 — сопло: б —плазменной струей:
/ — дуга, 2 —сопло, 3 —ка-тод, 4 — вольфрамовый электрод, 5 —
плазмотрон, 6 — плазменная струя
Процесс плазмообразовання может
вестись по двум схемам (рис. 9.1):
плазменной дугой прямого
действия, возбуждаемой между электродом н изделием, которое включено в
электрическую цепь;
плазменной струей, т. е. дугой
косвенного действия, возбуждаемой между двумя электродами, а изделие
в электрическую цепь не включено.
Первая схема более
производительная и потому намного чаще применяется чем вторая,
которая используется в основном для плазменного напыления
покрытий.
Разделительная плазменная резка
производится на постоянном токе прямой полярности. Поверхностная
плазменная резка применяется редко.
