Плазмотроны: конструкции, характеристики, расчет
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 24 25 26 27 28 29 30... 295 296 297
|
|
|
|
1. в этой схеме оказывается возможной реализация дугового разряда с высоким и изменяемым вольт-амперным отношением благодаря управлению положением опорных пятен дугового разряда на рабочих поверхностях электродов. Таким образом, оказывается возможным регулирование длины дугового разряда, а следовательно, и мощности плазмотрона, так как при заданной силе тока дугового разряда напряжение и мощность пропорциональны его длине. Плазмотроны с высоким вольт-амперным отношением позволяют получать большие мощности при сравнительно умеренной силе тока, т.е. избежать больших тепловых потерь в зоне разряда, и повысить работоспособность электродов. 2. Комбинированный плазмотрон не только сохраняет все преимущества, связанные с возможностью регулирования частоты вращения разряда, а следовательно, и возможности работы при высоком давлении, но и обладает дополнительно еще одним важнейшим преимуществом, состоящим в возможности изменения положения опорных пятен дугового разряда в ходе работы. Это дает возможность значительно повысить ресурс непрерывной работы плазмотрона, так как позволяет перемещать зону максимальной эрозионной выработки электрода (соответствует зоне щ)ащения приэлектродных пятен разряда) в процессе работы плазмотрона без его останова. Именно в таком исполнении с магнитным полем, обеспечивающим управление положением дугового разряда, и в вариантах с высоким вольт-амперным отношением эта схема имеет, по нашему мнению, серьезное преимущество перед другими схемами плазмотронов. 1.5. ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНЫЕ ПЛАЗМОТРОНЫ Для получения высокотемпературных потоков необходимо, во-первых, поднять температуру в дуге, что достигается путем зажатия дуги стенками канала, и во-вторых, уменьшить путь, проходимый газом от дуги до рабочей зоны. Последнее заставляет в некоторых случаях отказаться от смесительных камер, что приводит к некоторой неравномерности параметров в струе, выходящей из плазмотрона. Рассмотрим схемы некоторых высокотемпературных плазмотронов подробнее. 26
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 24 25 26 27 28 29 30... 295 296 297
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
