Плазмотроны: конструкции, характеристики, расчет
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо
Если Вы являетесь автором данной книги и её распространение ущемляет Ваши авторские права или если Вы хотите внести изменения в данный документ или опубликовать новую книгу свяжитесь с нами по по .
Страницы: 1 2 3... 137 138 139 140 141 142 143... 295 296 297
|
|
|
|
рост замедляется в области больших температур, так как начинают сказьгоаться большие потери в стенку. Однако увеличение температуры с ростом силы тока в плазмотронах с магнитной стабилизацией разряда меньше, чем в плазмотронах с вихревой стабилизацией разряда. Причина этого состоит в увеличении суммарной скорости газа, те-куш^его вдоль стенок, и, как следствие, в увеличении тепловых потерь от нагретого газа. Скорость же газа растет из-за большой скорости вращения дугового разряда при увеличении силы тока, так как при этом увеличиваются электродинамические силы, действующие на разряд (подробнее см. гл. 8). Из вышеизложенного следует, что при определенном рабочем теле достижение оптимального режима плазмотрона (близкой к максимальной температуры на выходе и достаточно высокого термического КПД) связано^ с правильны!^ выбором таких параметров, как сила тока разряда, секундный массовый расход рабочего тела и индукция магнитного поля. 4.6. ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНЫЕ ДАННЫЕ О СТРУКТУРЕ ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНОГО ПОТОКА В ВЫХОДНОМ СЕЧЕНИИ ПЛАЗМОТРОНА Поля температур и скоростей. На выходе из плазмотронов с вихреюй стабилизацией дугоюго разряда распределение температуры (если не приняты специальные меры по выравниванию температурного профиля струи) такою, что центральная область струи, испытавшая непосредственное воздействие дугоюго разряда, расположенного вблизи оси, имеет более высокую температуру, чем периферийные слои, не прошедшие через дугоюй разряд. При этом из-за большей плотности периферийных слоев сравнительно низкотемпературной остается большая часть массоюго расхода рабочего тела (до 60... 70 %), и это обстоятельстю не позюляет получать среднемассовые температуры выше 6000...6500 К. Типичное распределение температуры на выходе из плазмотрона с вихреюй стабилизацией дугоюго разряда приведено на рис. 4.27. В плазмотронах коаксиальной схемы юе рабочее тело проходит через зону горения дугоюго разряда и по этой причине неравномерность в распределении температуры после плазмотрона должна быть меньше, чем для плазмотронов с вихреюй стабилизацией разряда (рис. 4.28). С другой стороны, наличие массивного охлаждаемого 139
Карта
|
|
|
|
|
|
|
|
Страницы: 1 2 3... 137 138 139 140 141 142 143... 295 296 297
Внимание! эта страница распознана автоматически, поэтому мы не гарантируем, что она не содержит ошибок. Для того, чтобы увидеть оригинал, Вам необходимо скачать книгу |
